Jätmine analüüs

Hapniku ja CF4 plasma kasutatakse jätmise analüüsi eemaldada passivization kihist, sealhulgas räni nitriidi, ränidioksiid, polüimiid ja oxynitride.

OptiGlow ACE saab kasutada eemaldada plastikust kapseldus enne jätmise analüüsi. Plasma on ohutu, mittepurustavaid protsess, mis ei kahjusta sidumise mustrid, plii võlakirjade või seade ise.

  • Plasma rakendused

  • OptiGlow Plasma süsteemi

    Hinnaga alla $ 10.500 (USD), vastupidav, laua-top OptiGlow plasma süsteem sobib tootmiseks või lab rakendusi. Leia rohkem .

  • AutoGlow Plasma süsteemi

    AutoGlow plasma süsteem on kõige tõhusam lauatagune plasma süsteem omataoline turul, sest selle muutuja 10-300 W, 13,56 MHz solid state generator. Leia rohkem .

  • Katsetamine ja proovid

    Glow Research kestab proovid lepingu alusel või klientide huvi võimaliku ostu uute või ümberehitatud süsteemi. Kontakt rohkem teavet.

  • Kontakt

    Aadress:
    12014 S. 35. Ct.
    Phoenix, AZ. 85044
    Ameerika Ühendriikide

    Telefon:
    480-621-8405

    E-mail:
    customerservice@glowresearch.org

  • Tõlkija

    English flagItalian flagKorean flagChinese (Simplified) flagChinese (Traditional) flagPortuguese flagGerman flagFrench flagSpanish flagJapanese flagArabic flagRussian flagGreek flagDutch flagBulgarian flagCzech flagCroatian flagDanish flagFinnish flagHindi flagPolish flagRomanian flagSwedish flagNorwegian flagCatalan flagFilipino flagHebrew flagIndonesian flagLatvian flagLithuanian flagSerbian flagSlovak flagSlovenian flagUkrainian flagVietnamese flagAlbanian flagEstonian flagGalician flagMaltese flagThai flagTurkish flagHungarian flagBelarus flagIrish flagIcelandic flagMacedonian flagMalay flagPersian flag