플라즈마 클리너, 플라즈마 Etchers, 플라즈마 Ashers 및 증착 (PVD) 시스템을 스퍼터는 발광 연구에 의해 제공됩니다. 글로우 조사 AutoGlow 플라즈마 시스템을 제조, OptiGlow 플라즈마 시스템과 SputterGlow는 증착 (PVD) 시스템을 스퍼터. 글로우 연구는 Nordson 년 3 월 (Plasmod, 슈퍼 Plasmod, PM-600, 목성 RIE)에서 여러 구형 플라즈마 시스템을위한 부품 및 전세계 지원을 점령하고 다양한 요구 사항과 크기에 대한 새로운 플라즈마 반응기를 구축하고있다. 우리는 대부분의 연구소와 플라즈마 시스템을 구입하는 사람들이 판매 이전과 이후 지원의 큰 거래를 필요로한다는 점을 잘 알고 있습니다. 귀하의 샘플을 실행하고 시스템의 설치를 지원하는 기능이 있습니다. 글로우 연구는 우리의 시스템을 구입하는 것이 좋습니다 고객에게 무료 샘플을 처리합니다.

적합한 시스템 선택 :

공정 가스, 50w, 100 kHz에서, 알루미늄 챔버로 실내 공기를 OptiGlow는 -를 사용합니다. 표면 수정하십시오. 11,000달러 이하 당사의 낮은 가격의 시스템 (진공 펌프를 포함).

OptiGlow 75 용 산소 혹은 아르곤 (및 기타 가스), 75w, 100 kHz에서, 알루미늄 챔버와 함께 사용. 위한 표면 수정, 플라즈마 세정, prebond 치료.

OptiGlow ACE위한 산소, 아르곤 또는 불소 (CF4) 형 가스와 함께 사용. 두 가스 유량계, 알루 알루미늄 챔버. 가변 10~150와트 13.56 MHz의 RF 발생기, autotune. RIE 또는 플라즈마 처리. 정품 인증 들어, ashing, 세정 식각. 영화의 다양한 에칭, 고장 분석을위한 레이어 제거에 이상적입니다.

AutoGlow - 최대 3 가스 - 산소, 아르곤 등의 가스, 석영 챔버, 6 "기판, 변수 10-3백와트 13.56 MHz의 RF 발생기, autotune 있습니다. 용량성 결합, 푸시 버튼 자동 운전. 플라즈마 세정, prebond, 에칭 필름, 유기물 제거, 포토 레지스트를 제거하기 위해 사용됩니다.

AutoGlow 200-수있는 200mm 기판 (또는 8 "웨이퍼)을 처리합니다. RIE 또는 플라즈마 처리. 최대 3 ~ 가스 - 산소, 아르곤 또는 불소 (CF4) 타입 가스, 변수 10-3백와트 13.56 MHz의 RF 발생기, autotune, 알루 알루미늄 챔버. , 에칭 유기물 제거, 포토 레지스트 제거, 플라즈마 세정, 활성화, prebond에 사용됩니다.

AutoGlow 플라즈마 시스템

플라즈마 클리너. 이 테이블 상단 시스템은 10w이나 최대 300w, 13.56 MHz의 고체 발생기, 자동 튜닝, 압력 읽기 아웃, 질소 퍼지, 소프트 방출, 세 기체 입력 및 CE가 표시되어의 낮은 전력으로 사용할 수 있습니다. AutoGlow은 24 개월 보증 함께 제공됩니다. 치료 PDMS, 유기 제거 또는 포토 레지스트 제거를위한 완벽 해요. 석영 챔버를 가지고 있으며, 6 "(150 ㎜) 기판까지 처리할 수 있습니다.

적당한 비용으로 플라즈마 기술, 의료 과학, 교육 및 마이크로 일렉 트로닉스 커뮤니티를 제공하기 위해 실험실 설계로 AutoGlow 플라즈마 시스템은 물론 생산 공장에서 사용되고 있습니다. 2 년 보증을 포함합니다.

확대 AutoGlow 시스템은 고객의 요구 사항 (RIE 또는 플라즈마 처리)을 맞는 알루 알루미늄 챔버와 함께 사용할 수 있습니다. 아래 사진은 AutoGlow 200 개입니다. 200mm (8 ") 기판이나 웨이퍼, CF4, O2 또는 아르곤 가스, 시스템이 여러분이 사용하는 샘플 캐리어에 따라 RIE 또는 플라즈마 처리를 위해 사용할 수있는 최대를 위해 마련되었습니다. 그것은 알루 알루미늄 챔버를 가지고 있으며, 에칭, ashing 또는 표면 modificaiton 사용할 수 있습니다.

AutoGlow에 대해 더 알아보세요

OptiGlow 플라즈마 시스템  

shing, C leaning or E tching at 13.56 MHz. OptiGlow ACE는 플라즈마 ctivation, 아성, 13.56 MHz로 tching C 기울고 또는 E를 수행할 수 있도록 설계되었습니다. OptiGlow ACE는 두 기체 입력을 가지고 있으며, 공기, 산소 또는 형식 CF4 가스와 함께 사용 될 수 있습니다. 그것은 알루 알루미늄 챔버를 보유하고 RIE 또는 플라즈마 처리 중 사용할 수 있습니다. 패키지 또는 반도체 칩에 긴 프로세스 및 제거 레이어에 아주 좋아. 고장 분석에 사용, 포토 레지스트를 제거하는 유기물을 청소 Parylene, 표면 처리 및 기타 응용 프로그램의 호스트를 에칭.

표준 OptiGlow 시스템은 플라즈마 표면 수정 및 플라즈마 처리, 표면 활성화에 사용됩니다. 1만5백달러 (USD) 아래 가격, 견고한, 테이블 탑 OptiGlow 플라즈마 시스템은 생산 자나 실험실 어플 리케이션에 최적입니다. 챔버 압력 및 모듈 상태 표시와 함께 사용하기 쉽습니다.

OptiGlow 시스템은 콘택트 렌즈의 wettability과 편안함을 향상을 위해 사용할 수있는 최초의 저비용 플라즈마 시스템입니다. OptiGlow 플라즈마 시스템은 또한 라미네이팅 및 증착 공정, 코팅 이전에 사용에 이상적입니다, 그리고 기판이나 재료의 광범위한 치료에 매우 효과적입니다.

OptiGlow 75 플라즈마 시스템은 표준 OptiGlow과 유사하며 큰 알루미늄 챔버, 75 전력 와트와 같은 산소 혹은 아르곤과 같은 두 입력 가스를 사용할 수있는 옵션이 있습니다. 유기 제거 및 조직 포토 레지스트에 사용될 수 있습니다.

SputterGlow는 증착 시스템을 스퍼터

최대 세 명의 목표를 가진 절연체 혹은 금속의 넓은 범위를 입금하기위한 완벽한 선택. 원래 SputterGlow 프로세스가 질화물 증착을위한 같은 SiH 4와 같은 위험한 가스가 필요없는 PECVD-때문에시 3 N 사용하는 대안으로 태양 전지에 4 안티 - 반사 코팅을 입금하도록 설계. 시스템은 스테퍼 로봇, 온수 방송국이 있고, 무릎 탑 컴퓨터와 제어됩니다.

독점 평면 마그네트론은 필요에 따라, 낮은 또는 높은 전력으로 플라즈마를 생성합니다. SputterGlow는 프로세스 진공 무결성을 보장하고 (비용을 낮춰 위하여) 알루미늄 챔버를 활용하도록 설계되었습니다.

SputterGlow에 대해 더 알아보세요

재건 시스템

글로우 연구는 Nordson 3 월부터 몇 오래된 단위 (3 월 Plasmod 월 슈퍼 Plasmod 월 PM-600 3 월 목성 RIE 시스템).을위한 부품 및 서비스에 대한 전세계적인 책임을 점령했습니다 우리는 3 월 Tegal 플라즈마 시스템을 재건 우리의 전문 지식과 제공에있어. 우리가 제공하는 재건 어떤 시스템을 좀보세요 .