Îndepărtarea de fotorezist

AutoGlow plasma Sistemul poate fi folosit pentru curatarea de fotorezist. Cei mai multi utilizatori folosesc o plasmă de oxigen pentru a elimina fotorezist dintr-o varietate de tipuri de napolitane (siliciu, GaAs, carbura de siliciu, siliciu nitrura de substraturi). Designul automat AutoGlow plasma sistem va permite o operare uşoară şi nesupravegheate.

Calcinarea temperatură scăzută este un mijloc eficient de a pregăti probe pentru o mare varietate de metode analitice. O plasma de oxigen se va oxida usor materialul organic lăsând în urmă anorganice. Probele, cum ar fi ţesut de plante sau animale pot fi calcinat lăsând intactă structura tridimensionala pentru microscopie analiză. Ratele de incinerare sunt de aproximativ un gram pe oră, astfel încât sistemul de plasmă AutoGlow Auto-Tune caracteristică este bine adaptat pentru funcţionare fără supraveghere. AutoGlow plasma Sistemul poate fi folosit pentru curăţarea celulelor de transport, ferestre şi diapozitive microscop.