Heqje e Photoresist

Sistemi plazma AutoGlow mund të përdoren për nxjerrje të photoresist. Shumica e përdoruesve të përdorni një plazma oksigjeni për të hequr photoresist nga një shumëllojshmëri të llojeve të simbolit wafers silic, GaAs, silic karabit, nitrike substrates silic). Dizajni i automatizuar i plazma AutoGlow sistemit do të lejojë funksionimin e lehtë dhe të pambikëqyrur.

Ashing temperaturë të ulët është një mjet efektiv i përgatitjes së mostrave për një shumëllojshmëri të gjerë të metodave analitike. Një plazma oksigjeni do të butë ndryshket material organik lënë inorganics prapa. Mostrat e tilla si e bimëve ose kafshëve indet mund të ashed lënë strukturë tre dimensional i paprekur për mikroskopi analizës. Normat Ashing janë rreth një gram në orë, kështu që sistemi plazma AutoGlow auto-melodi tipar është e përshtatshme për funksionimin e pambikëqyrur. Sistemi plazma AutoGlow mund të përdoret për pastrimin e qelizave të transmetimit, dritare dhe slides mikroskop.