等离子清洗机，等离子蚀刻机，等离子Ashers和溅射沉积（PVD）系统，提供由夜光研究。 夜光研究制造AutoGlow等离子体系统，OptiGlow血浆系统和SputterGlow的溅射沉积（PVD）系统。 灼热的研究已超过几个老血浆三月诺信（疟原虫，超级疟原虫，PM-600，木星刻蚀）系统的部件和全球支持，并建立新的等离子反应堆的各种要求和尺寸。 据我们了解，大多数实验室和出售之前和之后的人购买等离子系统需要的大量援助。 我们有能力来运行您的样品，并协助您的系统安装。 辉光研究将处理客户可能想购买我们的系统免费样品 。
选择正确的系统：
OptiGlow使用工艺气体，50瓦，100千赫，铝腔室内空气。 表面改性。 我们最低11,000元以下的低价系统（包括真空泵）。
75 OptiGlow使用氧气或氩气（和其他气体），75瓦，100千赫，铝腔。 对于表面改性，等离子体清洗，prebond的治疗。
ACE的OptiGlow使用氧气，氩气或氟化碳（CF4）型气。 两种气体流量计，铝阳极室。 变量10至150瓦的13.56 MHz的射频发生器，自动调谐。 RIE或等离子体处理。 激活，灰化，清洁和蚀刻。 为消除故障分析层，蚀刻各种电影的理想选择。
AutoGlow三个气体，氧气，氩气或其他气体，石英室，6“基板，可变10至300瓦的13.56 MHz的射频发生器，自动调谐。 容性耦合，按钮自动操作。 用于等离子清洗，prebond，薄膜蚀刻，去除有机物，去除光阻。
AutoGlow 200可处理200毫米基板（或8英寸晶圆）。 RIE或等离子体处理。 三种气体氧气，氩气或氟化碳（CF4）气体类型，变量10至300瓦的13.56 MHz的射频发生器，自动调谐，铝阳极室。 用于等离子清洗，活化，prebond，蚀刻，去除有机物，去除光阻。
等离子清洗机 。 这表系统可用于低功率10瓦或300瓦，13.56兆赫固态发生器，自动调谐，读出压力，氮气吹扫，软通风，三气输入，并贴有CE标志。 AutoGlow来24个月的保修 。 完美治疗的PDMS，有机物的去除或光阻去除。 有一个石英室和可以处理多达6“（150毫米）基板。
等离子体系统的AutoGlow 用于生产工厂以及实验室的设计提供社会医疗，科研，教育和微电子等离子在价格适中的技术， 包括2年保修 。
较大的AutoGlow系统可与铝阳极氧化室，以适应客户的要求（RIE或等离子体处理）。 图为下面，是AutoGlow 200。 设计长达200毫米（8英寸）基板或晶圆，四氟化碳，氧气或氩气，该系统可用于刻蚀或等离子体处理，取决于您使用的样品载体。 它有一个阳极氧化铝室和可用于蚀刻，灰化或表面modificaiton的使用。
找出有关AutoGlow的更多信息
shing, C leaning or E tching at 13.56 MHz. OptiGlow的ACE设计执行一个 ctivation血浆， 一成，C左倾或 E tching在13.56兆赫。 的OptiGlow ACE有两种气体输入，并可以利用空气，氧气或CF4的气体类型。 它有一个阳极氧化铝室和可用于RIE或等离子体处理 。 大包或半导体芯片上的一个长期的过程和删除层。 用于故障分析，去除光阻，清洗有机物，蚀刻聚对二甲苯，表面处理和其他应用程序的主机。
用于等离子体表面改性和等离子体处理，表面活化标准OptiGlow系统。 售价$ 10,500（美元）以下的，坚固，表上OptiGlow等离子体系统是用于生产或实验室应用的理想选择。 易于使用的腔压力和模块状态显示。
OptiGlow系统是第一个低成本等离子系统，可用于增加隐形眼镜的润湿性和舒适。 OptiGlow等离子体系统也是使用前涂料，层压和沉积过程的理想，是高度有效治疗基板或材料的广泛。
在75 OptiGlow等离子体系统是标准OptiGlow类似，有一个较大的铝腔，75瓦的功率，选择使用两个输入气体，如氧气或氩气 ，可用于有机物的去除和剥离光阻。
存入电介质或金属广泛的三个目标，一个完美的选择。 最初的设计存入硅3 N 4的防反光涂层太阳能电池作为替代使用PECVD反应，因为SputterGlow过程不需要SIH 4，如危险气体氮化物沉积 。 该系统具有步进机器人，加热站，并与手提电脑控制。
专有的平面磁控等离子体产生高或低功率，取决于你的需要。 SputterGlow被设计，以确保过程的真空完整性和利用铝室（为了降低成本）。
发光的研究已在全球范围内的责任零件和几个老单位（三月三月超级疟原虫，疟原虫，PM-600和三月木星刻蚀系统）三月三月诺信服务 我们留在我们的专业知识和重建三月Tegal的等离子体系统的报价。 采取什么重建我们所提供的系统 。
地址： 12014与35 CT。 亚利桑那州凤凰城。 85044 美国
电话： 480-621-8405
电子邮件： customerservice@glowresearch.org
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OptiGlow使用工艺气体，50瓦，100千赫，铝腔室内空气。 表面改性。 我们最低11,000元以下的低价系统（包括真空泵）。
75 OptiGlow使用氧气或氩气（和其他气体），75瓦，100千赫，铝腔。 对于表面改性，等离子体清洗，prebond的治疗。
ACE的OptiGlow使用氧气，氩气或氟化碳（CF4）型气。 两种气体流量计，铝阳极室。 变量10至150瓦的13.56 MHz的射频发生器，自动调谐。 RIE或等离子体处理。 激活，灰化，清洁和蚀刻。 为消除故障分析层，蚀刻各种电影的理想选择。
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AutoGlow 200可处理200毫米基板（或8英寸晶圆）。 RIE或等离子体处理。 三种气体氧气，氩气或氟化碳（CF4）气体类型，变量10至300瓦的13.56 MHz的射频发生器，自动调谐，铝阳极室。 用于等离子清洗，活化，prebond，蚀刻，去除有机物，去除光阻。
AutoGlow等离子体系统
等离子清洗机 。 这表系统可用于低功率10瓦或300瓦，13.56兆赫固态发生器，自动调谐，读出压力，氮气吹扫，软通风，三气输入，并贴有CE标志。 AutoGlow来24个月的保修 。 完美治疗的PDMS，有机物的去除或光阻去除。 有一个石英室和可以处理多达6“（150毫米）基板。
等离子体系统的AutoGlow 用于生产工厂以及实验室的设计提供社会医疗，科研，教育和微电子等离子在价格适中的技术， 包括2年保修 。
较大的AutoGlow系统可与铝阳极氧化室，以适应客户的要求（RIE或等离子体处理）。 图为下面，是AutoGlow 200。 设计长达200毫米（8英寸）基板或晶圆，四氟化碳，氧气或氩气，该系统可用于刻蚀或等离子体处理，取决于您使用的样品载体。 它有一个阳极氧化铝室和可用于蚀刻，灰化或表面modificaiton的使用。
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OptiGlow等离子体系统
shing, C leaning or E tching at 13.56 MHz. OptiGlow的ACE设计执行一个 ctivation血浆， 一成，C左倾或 E tching在13.56兆赫。 的OptiGlow ACE有两种气体输入，并可以利用空气，氧气或CF4的气体类型。 它有一个阳极氧化铝室和可用于RIE或等离子体处理 。 大包或半导体芯片上的一个长期的过程和删除层。 用于故障分析，去除光阻，清洗有机物，蚀刻聚对二甲苯，表面处理和其他应用程序的主机。
用于等离子体表面改性和等离子体处理，表面活化标准OptiGlow系统。 售价$ 10,500（美元）以下的，坚固，表上OptiGlow等离子体系统是用于生产或实验室应用的理想选择。 易于使用的腔压力和模块状态显示。
OptiGlow系统是第一个低成本等离子系统，可用于增加隐形眼镜的润湿性和舒适。 OptiGlow等离子体系统也是使用前涂料，层压和沉积过程的理想，是高度有效治疗基板或材料的广泛。
在75 OptiGlow等离子体系统是标准OptiGlow类似，有一个较大的铝腔，75瓦的功率，选择使用两个输入气体，如氧气或氩气 ，可用于有机物的去除和剥离光阻。
SputterGlow溅射沉积系统
存入电介质或金属广泛的三个目标，一个完美的选择。 最初的设计存入硅3 N 4的防反光涂层太阳能电池作为替代使用PECVD反应，因为SputterGlow过程不需要SIH 4，如危险气体氮化物沉积 。 该系统具有步进机器人，加热站，并与手提电脑控制。
专有的平面磁控等离子体产生高或低功率，取决于你的需要。 SputterGlow被设计，以确保过程的真空完整性和利用铝室（为了降低成本）。
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重建系统
发光的研究已在全球范围内的责任零件和几个老单位（三月三月超级疟原虫，疟原虫，PM-600和三月木星刻蚀系统）三月三月诺信服务 我们留在我们的专业知识和重建三月Tegal的等离子体系统的报价。 采取什么重建我们所提供的系统 。