夜光研究 - 血漿你所有的等離子清洗系統，灰化，或蝕刻需求

等離子清洗機，等離子蝕刻機，等離子Ashers和濺射沉積（PVD）系統，提供由夜光研究。夜光研究製造AutoGlow等離子體系統，OptiGlow血漿系統和SputterGlow的濺射沉積（PVD）系統。灼熱的研究已超過幾個老血漿三月諾信（瘧原蟲，超級瘧原蟲，PM-600，木星刻蝕）系統的部件和全球支持，並建立新的等離子反應堆的各種要求和尺寸。據我們了解，大多數實驗室和出售之前和之後的人購買等離子系統需要的大量援助。我們有能力來運行您的樣品，並協助您的系統安裝。輝光研究將處理客戶可能想購買我們的系統免費樣品 。

選擇正確的系統：

OptiGlow使用工藝氣體，50瓦，100千赫，鋁腔室內空氣。表面改性。我們最低11,000元以下的低價系統（包括真空泵）。

75 OptiGlow使用氧氣或氬氣（和其他氣體），75瓦，100千赫，鋁腔。對於表面改性，等離子體清洗，prebond的治療。

ACE的OptiGlow使用氧氣，氬氣或氟化碳（CF4）型氣。兩種氣體流量計，鋁陽極室。變量10至150瓦的13.56 MHz的射頻發生器，自動調諧。 RIE或等離子體處理。激活，灰化，清潔和蝕刻。為消除故障分析層，蝕刻各種電影的理想選擇。

AutoGlow三個氣體，氧氣，氬氣或其他氣體，石英室，6“基板，可變10至300瓦的13.56 MHz的射頻發生器，自動調諧。容性耦合，按鈕自動操作。用於等離子清洗，prebond，薄膜蝕刻，去除有機物，去除光阻。

AutoGlow 200可處理200毫米基板（或8英寸晶圓）。 RIE或等離子體處理。三種氣體氧氣，氬氣或氟化碳（CF4）氣體類型，變量10至300瓦的13.56 MHz的射頻發生器，自動調諧，鋁陽極室。用於等離子清洗，活化，prebond，蝕刻，去除有機物，去除光阻。

AutoGlow等離子體系統

等離子清洗機 。這表系統可用於低功率10瓦或300瓦，13.56兆赫固態發生器，自動調諧，讀出壓力，氮氣吹掃，軟通風，三氣輸入，並貼有CE標誌。 AutoGlow來24個月的保修 。完美治療的PDMS，有機物的去除或光阻去除。有一個石英室和可以處理多達6“（150毫米）基板。

等離子體系統的AutoGlow 用於生產工廠以及實驗室的設計提供社會醫療，科研，教育和微電子等離子在價格適中的技術， 包括2年保修 。

較大的AutoGlow系統可與鋁陽極氧化室，以適應客戶的要求（RIE或等離子體處理）。圖為下面，是AutoGlow 200。設計長達200毫米（8英寸）基板或晶圓，四氟化碳，氧氣或氬氣，該系統可用於刻蝕或等離子體處理，取決於您使用的樣品載體。它有一個陽極氧化鋁室和可用於蝕刻，灰化或表面modificaiton的使用。

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OptiGlow等離子體系統

shing, C leaning or E tching at 13.56 MHz. OptiGlow的ACE設計執行一個 ctivation血漿，一成，C左傾或 E tching在13.56兆赫。的OptiGlow ACE有兩種氣體輸入，並可以利用空氣，氧氣或CF4的氣體類型。它有一個陽極氧化鋁室和可用於RIE或等離子體處理 。大包或半導體芯片上的一個長期的過程和刪除層。用於故障分析，去除光阻，清洗有機物，蝕刻聚對二甲苯，表面處理和其他應用程序的主機。