等離子清洗機，等離子蝕刻機，等離子Ashers和濺射沉積（PVD）系統是由發光研究。 發光研究製造新的AutoGlow血漿清潔 /蝕刻，OptiGlow等離子系統和SputterGlow濺射沉積（PVD）系統。 發光研究還採取了一些舊的等離子系統的部件和世界的支持，從諾信3月（Plasmod，超級 Plasmod，PM - 600，木星RIE）和建立的各種要求和尺寸的新的等離子反應堆。 據我們了解，大多數實驗室和人民購買等離子系統的銷售前後需要大量的援助。 我們有能力來運行你的樣品，並協助安裝與您的系統。 發光研究過程可能想購買我們的系統為客戶免費提供樣品 。
電漿清洗 。 可用於低功率高達 300瓦，10瓦，13.56 MHz的固態發生器，自動調節，壓力讀出，氮氣吹掃，軟通風，三氣輸入，並貼有CE標誌。 AutoGlow來自24個月的保修。 適合治療的PDMS，有機物的去除或光阻去除。
AutoGlow血漿系統採用的是生產工廠以及實驗室設計提供社會醫療，科研，教育和微電子等離子技術在一個適度的成本，包括2年的保修。
較大的AutoGlow系統可與鋁陽極氧化室，以適應客戶的要求。 AutoGlow系統可以處理 200毫米（8英寸）晶圓。
了解更多有關AutoGlow
一個完美的選擇存款電介質或金屬與三個目標。 最初的設計Si 3 N 4的的防反射塗層沉積在太陽能電池作為替代使用的PECVD - SputterGlow過程中， 因為不需要SIH 4，如危險氣體氮化物沉積。 該系統具有步進機器人，加熱站，和一個手提電腦的控制。
專有的平面磁控生成一個具有高或低功率取決於你的需要的血漿。 SputterGlow是設計，以確保過程的真空的完整性和利用鋁室（降低成本）。
了解更多有關SputterGlow
用於等離子體表面改性和等離子體處理，表面活化 。 售價 $ 10,500（美元）以下的，堅固，表頂部 OptiGlow等離子系統是生產或實驗室應用的理想選擇。 易於使用。 腔壓力和模塊狀態的顯示。
OptiGlow系統是第一個低成本等離子系統，可用於增加隱形眼鏡和各種材料的潤濕性和舒適。 OptiGlow等離子系統使用之前塗層，覆膜和沉積過程的理想選擇，是非常有效的治療基板或材料的廣泛。 用於生物微機電系統（MEMS）和微流體。
OptiGlow 75等離子系統的標準OptiGlow一樣，但與75瓦的功率和選項使用兩個輸入氣體，如氧氣或氬氣，。
leaning or E tching at 13.56 MHz. OptiGlow ACE是執行一成，C倚在13.56MHz 或 E tching。 OptiGlow ACE是兩種氣體輸入，並且可以使用CF4的類型氣體。 陽極氧化鋁室和RIE或等離子體條件。 一個漫長的過程，並在包裝上或半導體芯片消除層大。
OptiGlow（ACE清潔，灰化，蝕刻）
OptiGlow系統
發光的研究已在世界各地的零部件和服務的幾個老諾信3月（3月Plasmod，超級 Plasmod 3月，3月PM - 600和三月木星RIE系統）的單位的責任。 我們留在我們的專業知識和提供重建三月Tegal等離子系統。 看看什麼重建我們所提供的系統。
地址： 12014 S.的第35次CT。 亞利桑那州鳳凰城。 85044 美國
電話： 480-621-8405
電子郵件： customerservice@glowresearch.org
等離子清洗機，等離子蝕刻機，等離子Ashers和濺射沉積（PVD）系統是由發光研究。 發光研究製造新的AutoGlow血漿清潔 /蝕刻，OptiGlow等離子系統和SputterGlow濺射沉積（PVD）系統。 發光研究還採取了一些舊的等離子系統的部件和世界的支持，從諾信3月（Plasmod，超級 Plasmod，PM - 600，木星RIE）和建立的各種要求和尺寸的新的等離子反應堆。 據我們了解，大多數實驗室和人民購買等離子系統的銷售前後需要大量的援助。 我們有能力來運行你的樣品，並協助安裝與您的系統。 發光研究過程可能想購買我們的系統為客戶免費提供樣品 。
AutoGlow等離子系統
電漿清洗 。 可用於低功率高達 300瓦，10瓦，13.56 MHz的固態發生器，自動調節，壓力讀出，氮氣吹掃，軟通風，三氣輸入，並貼有CE標誌。 AutoGlow來自24個月的保修。 適合治療的PDMS，有機物的去除或光阻去除。
AutoGlow血漿系統採用的是生產工廠以及實驗室設計提供社會醫療，科研，教育和微電子等離子技術在一個適度的成本，包括2年的保修。
較大的AutoGlow系統可與鋁陽極氧化室，以適應客戶的要求。 AutoGlow系統可以處理 200毫米（8英寸）晶圓。
了解更多有關AutoGlow
SputterGlow濺射沉積系統
一個完美的選擇存款電介質或金屬與三個目標。 最初的設計Si 3 N 4的的防反射塗層沉積在太陽能電池作為替代使用的PECVD - SputterGlow過程中， 因為不需要SIH 4，如危險氣體氮化物沉積。 該系統具有步進機器人，加熱站，和一個手提電腦的控制。
專有的平面磁控生成一個具有高或低功率取決於你的需要的血漿。 SputterGlow是設計，以確保過程的真空的完整性和利用鋁室（降低成本）。
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OptiGlow等離子系統
用於等離子體表面改性和等離子體處理，表面活化 。 售價 $ 10,500（美元）以下的，堅固，表頂部 OptiGlow等離子系統是生產或實驗室應用的理想選擇。 易於使用。 腔壓力和模塊狀態的顯示。
OptiGlow系統是第一個低成本等離子系統，可用於增加隱形眼鏡和各種材料的潤濕性和舒適。 OptiGlow等離子系統使用之前塗層，覆膜和沉積過程的理想選擇，是非常有效的治療基板或材料的廣泛。 用於生物微機電系統（MEMS）和微流體。
OptiGlow 75等離子系統的標準OptiGlow一樣，但與75瓦的功率和選項使用兩個輸入氣體，如氧氣或氬氣，。
leaning or E tching at 13.56 MHz. OptiGlow ACE是執行一成，C倚在13.56MHz 或 E tching。 OptiGlow ACE是兩種氣體輸入，並且可以使用CF4的類型氣體。 陽極氧化鋁室和RIE或等離子體條件。 一個漫長的過程，並在包裝上或半導體芯片消除層大。
OptiGlow（ACE清潔，灰化，蝕刻）
OptiGlow系統
重建系統
發光的研究已在世界各地的零部件和服務的幾個老諾信3月（3月Plasmod，超級 Plasmod 3月，3月PM - 600和三月木星RIE系統）的單位的責任。 我們留在我們的專業知識和提供重建三月Tegal等離子系統。 看看什麼重建我們所提供的系統。